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普發渦輪分子真空泵HiPace 80 Neo

發布日期:2026-4-1 9:40:40 訪問次數:79

普發渦輪分子真空泵HiPace 80 Neo

技術參數 HiPace 80 Neo,搭配 TC 80
氫氣抽速 48 l/s
氦氣抽速 58 l/s
氬氣抽速 66 l/s
氮氣抽速 67 l/s
氫氣壓縮比 1.4 · 10?
氦氣壓縮比 1.3 · 10?
氬氣壓縮比 1 · 1011
氮氣壓縮比 1 · 1011
最終轉速下的氫氣氣體流量 15.3 hPa l/s
最終轉速下的氦氣氣體流量 2.7 hPa l/s
最終轉速下的氬氣氣體流量 0.54 hPa l/s
最終轉速下的氮氣氣體流量 1.3 hPa l/s
適用于氮氣的最大前級真空 22 hPa
啟動時間 1.25 最小
可選通信接口 通過 CIP 適配器實現 EtherCAT 和 Profinet 通信
標準通信接口 RS-485,遠程
安裝方向 任意
聲壓級(EN ISO 2151) 48 dBA
重量(約) 1.7 kg
進氣口 DN40/DN 63 ISO-K/ISO-KF/CF-F
排氣口 G 1/4"
市場和應用
1、車輛及運輸
泄漏檢測和 EoL 測試
太空探索
3D 打印
2、電池
泄漏檢測和 EoL 測試(主控)
3、化學品
實驗室真空
4、氫能經濟
泄漏檢測和 EoL 測試(主控)
5、醫療
實驗室真空
質譜儀
6、冶金
3D 打印
7、制藥與生物技術
實驗室真空
8、發電
綠色能源生產
9、研發
高能物理
光子學研究
太空探索
超高真空
低溫工程
等離子體物理
實驗室真空
質譜分析
10、制冷和空調
泄漏檢測和 EoL 測試
11、科學儀器
質譜分析
表面分析
電子顯微鏡
12、半導體
LPCVD / 擴散
剝離 / 灰化
PVD
檢驗與計量
Si Poly etch
輕沉積
離子注入
PECVD
光刻技術
金屬和高 K 蝕刻
氧化物蝕刻
Load lock 和 傳輸
ALD
13、技術氣體
裝瓶
14、薄膜鍍層
裝飾涂層
實驗室涂層
耐磨損涂層

工作時間

早9:00 - 晚18:00

周六日休息

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